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平面拋光機光潔度對光學(xué)玻璃的影響因素

發(fā)布日期: 2021-07-27  瀏覽人數:

平面拋光機光潔度是指光學(xué)玻璃上的粗加工應用在工業(yè)中起著(zhù)重要的作用,后通過(guò)平面光學(xué)玻璃拋光機拋光表面粗糙度會(huì )影響光學(xué)玻璃的許多性質(zhì),如折射率,折射率,散光,透光率等。
 
與基底表面光潔度的增加或光學(xué)玻璃表面光潔度,減少光學(xué)玻璃的折射率,消光系數略有增加。基板的表面光潔度18.8nm,折射率和消光系數是最大的。
原因主要是在橢圓偏方法適合基底粗糙度為1.23nm,分別為2.62和15.22nm樣本擬合的均方誤差(MSE)小于4,地下室的粗糙度為18.8nm樣本擬合均方誤差(MSE)是9.29,基底表面粗糙度和光學(xué)玻璃表面光潔度較大,結構模型1無(wú)法獲得更準確的數據。模型采用2,只考慮光學(xué)玻璃的表面粗糙度,而不考慮基底層平滑和混合形成的薄膜層之間的擬合,MSE的擬合是2.0左右。與基底完成的增加,玻璃的折射率單調,滅絕吸收單調增加。
 
折射率減少的主要原因是因為尚未考慮結構模型的基本完成和玻璃之間形成的混合層,由于存在基本完成由基材和玻璃混合層的折射率小于玻璃材料配件不是孤立的,而是直接進(jìn)入二氧化鈦薄膜,作為處理的二氧化鈦薄膜。和消光吸收增加是由于表面粗糙度和混合層會(huì )導致不同程度的光散射,這部分的核心配件的散射光的光吸收處理。采用3的結構模型擬合給定沒(méi)有特定的結構,主要是因為結構模型3的擬合折射率和消光系數基本完成四個(gè)變化非常小,擬合的評價(jià)標準的均方誤差小于1.0。
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